光催化氧化設備的技術***征 

　　光催化氧化設備是一項成熟的工藝，工藝有用性的關鍵在于紫外線的強度和催化劑的催化能力以及催化時間。光催化應用技術工藝簡略、成本低廉，利用自然光即可催化分解細菌和污染物，具有高催化活性、杰出的化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性、無二次污染、無刺激性、安全無毒等***征，且能長期有益于生態(tài)自然環(huán)境，是具有開發(fā)遠景的綠色環(huán)保催化技術之一。

　　光催化氧化設備在技術上主要有以下***征：

　　（1）低溫深度反響：光催化氧化可在常溫將空氣、水和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的物質。而傳統(tǒng)的高溫燃燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化氧化方法也需要幾百度的高溫。

　?。?）凈化完全：它直接將空氣中的有機污染物，完全氧化成無毒無害的物質，不留任何無二次污染，現(xiàn)在廣泛采用活性炭吸附法不分解污染物，僅僅將污染源搬運。

　　（3）綠色動力：光催化可利用太陽光作為動力來活化光催化劑，驅動氧化恢復反響，而且光催化劑在反響過程中并不消耗。從動力視點而言，這一***征使光催化技術更具魅力。

　?。?）氧化性強：很多研究標明，半導體光催化具有氧化性強的***征，對臭氧難以氧化的某些有機物如三氯甲烷、四氯化碳、六氯苯都能有用地加以分解，所以難以降解的有機物具有***別含義。

　?。?）廣譜性：光催化對從烴到羧酸的種類很多有機物有用，對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有極佳的去除作用，一般通過持續(xù)反響可到達完全凈化。